"SK하이닉스, 中 공장 EUV 도입 무산?···美 반대 넘어야"
"SK하이닉스, 中 공장 EUV 도입 무산?···美 반대 넘어야"
이 기사를 공유합니다

로이터, 백악관 인용···"중국, 첨단 반도체 장비 군사력 증대에 악용 우려" 
회사 "국내 도입도 초창기, 中 도입 단계 아니···운영 문제 없도록 노력"
SK하이닉스 중국 우시 확장팹 준공식. (사진=SK하이닉스)
SK하이닉스 중국 우시 확장팹 준공식. (사진=SK하이닉스)

[서울파이낸스 오세정 기자] SK하이닉스의 중국 장쑤성 우시(無錫) 공장 첨단화 작업이 미국의 반대로 무산될 가능성이 있다는 보도가 나왔다. 미국과 중국의 반도체 패권 다툼 속에 한국 기업들이 직접적인 타격을 받을 수 있다는 우려가 현실화한 것 아니냐는 관측이 나온다. 

18일 로이터통신은 복수의 소식통을 인용해 SK하이닉스가 우시 공장에 네덜란드 반도체 장비기업 ASML의 극자외선(EUV) 노광장비를 설치해 반도체 제조 공정의 수율을 끌어올린다는 계획을 세웠으나 미국 정부의 반대를 넘을 수 있을지 불투명하다고 전했다.

미 백악관 고위 당국자는 SK하이닉스의 EUV 장비 중국 반입을 최종적으로 허용할 지 묻는 말에 언급을 거부한 것으로 전해졌다. 하지만 한 당국자는 조 바이든 미 행정부가 중국군 현대화에 쓰일 수 있는 최첨단 반도체 개발에 미국과 동맹국의 기술을 활용하는 것을 막는다는 입장에서 변함이 없다고 말했다. 미국은 과거에도 중국의 군사력 증대에 악용될 수 있다며 첨단 반도체 장비 등의 중국 반입을 막아왔다.

SK하이닉스는 중국 우시에 D램 생산라인을 운영 중인데 이곳에서 회사 D램 칩의 절반 정도가 생산된다. 이는 전세계 D램 생산량의 15%에 해당한다. SK하이닉스가 전 세계 D램 시장 점유율 2위를 차지하고 있다는 점을 고려하면 EUV 공정 전환 지연은 회사 수익 뿐 아니라 글로벌 전자 산업에 큰 영향을 미칠 수 있다는 게 로이터 설명이다. 

로이터는 SK하이닉스가 EUV 장비로 공정을 개선하지 않는다면 비용 절감과 생산 속도 개선이란 목표를 달성하기 힘들다고 지적했다. 10nm(나노미터, 10억분의 1m)급 미만 반도체 생산을 하기 위해서는 EUV 노광장비가 필수적이다. 로이터는 관계자의 말을 빌려 "2~3년 후 새로운 스타일의 반도체(차세대 D램 등을 의미)가 SK하이닉스에서 큰 비중을 차지하기 때문에 회사는 비용을 절약하고, 생산을 가속화하기 위해 EUV가 필요할 것"이라고 했다.

특히 로이터는 SK하이닉스가 수년 안에 이 문제를 해결하지 못하면 삼성전자나 미국 마이크론과의 경쟁에서 불리한 입장에 놓일 것이라며 SK하이닉스가 미중 갈등의 또 다른 희생자가 될 수 있다고 말했다. 현재 삼성전자와 미국 마이크론의 경우에도 EUV 공정 전환을 서두르고 있지만 아직 미국의 '대(對)중국 수출제한'에 해당하는 공장에는 EUV 장비 도입을 시도하고 있지 않다는 게 로이터 설명이다.

SK하이닉스는 국내에서도 EUV 노광장비를 이용한 생산이 막 시작된 만큼 중국 우시 공장에 실제 도입될 때까진 시간이 아직 많이 남았다는 입장이다. SK하이닉스 관계자는 "EUV 국내 도입이 초창기이고 중국 공장에 도입 단계로 보긴 아직 이르다"면서 "앞으로도 국제 규범을 준수하면서 중국 우시 공장을 지속적으로 운영 하는 데 문제 없도록 노력하겠다"고 말했다. 

앞서 SK하이닉스는 이달 초 미국 정부의 요구에 따라 삼성전자, 대만 TSMC, 미국 마이크론 등 다른 글로벌 반도체 기업들과 함께 미 상무부에 반도체 공급망 자료를 제출하기도 했다.


관련기사

이 시간 주요 뉴스
댓글삭제
삭제한 댓글은 다시 복구할 수 없습니다.
그래도 삭제하시겠습니까?
댓글 0
댓글쓰기
계정을 선택하시면 로그인·계정인증을 통해
댓글을 남기실 수 있습니다.