삼성전자, 국제 오디오 공학회 톱10 논문 선정 '기술력 입증'
삼성전자, 국제 오디오 공학회 톱10 논문 선정 '기술력 입증'
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스피커 포트 디자인·비선형 제어 알고리즘·헤드폰 음향 최적화
미국 새너제이(San Jose)에 위치한 삼성 리서치 아메리카 오디오랩‘무향실’에서 논문에 참여한 연구원이 음질을 테스트 하고있다.(사진=삼성전자)
미국 새너제이(San Jose)에 위치한 삼성 리서치 아메리카 오디오랩‘무향실’에서 논문에 참여한 연구원이 음질을 테스트 하고있다.(사진=삼성전자)

[서울파이낸스 윤은식 기자] 삼성전자는 최근 '국제 오디오 공학회 2019'에서 선정한 논문 상위 10개 목록에 3개를 올리며 오디오 기술력을 입증했다고 6일 밝혔다.

미국 뉴욕에 본부를 두고 있는 국제 오디오 공학회는 70여 년 역사의 가장 공신력 있는 학회다.

이번에 '톱(TOP)10'에 선정된 논문은 삼성 리서치 아메리카(SRA) 소속 오디오 랩에서 제출한 것이다. 음향 성능 최적화를 위한 '스피커 포트 디자인', 소리 왜곡을 바로잡는 '비선형 제어 기술', 근거리 반응 기술을 이용한 '헤드폰 음향 개인 최적화 기술' 등 총 3개다.

일반적으로 스피커는 밀폐형(Sealed)과 구멍이 나 있는 포트형(Ported)으로 분류된다. 포트형 스피커는 밀폐형 대비 깊은 저음을 내는데 용이하지만 공기가 통하는 구조라 잡음이 생기기 쉬운데 이 같은 노이즈를 최소화해 스피커 성능을 최적화하는 기술이 선정됐다.

두 번째는 소리의 왜곡을 제어해 원하는 소리를 정확하게 내주는 알고리즘 기술이다. 소리는 스피커에 들어오는 전극의 힘에 따라 불규칙한 왜곡이 발생하는데, 이 기술은 소리가 스피커에 도달하기 전에 전극을 보정해 의도한 소리를 정확하게 내준다.

마지막으로 사람마다 소리가 전달되는 귀의 구조, 고막 모양, 반사 정도가 다르기 때문에 이를 미리 측정해 소리를 일정하게 최적화시켜주는 헤드폰 관련 기술이 선정됐다.

앨런 드밴티어(Allan Devantier) 삼성 리서치 아메리카에서 오디오 랩 담당 상무는 “국제 오디오 공학회를 통해 삼성전자의 오디오 기술력을 인정받아 기쁘다”며 “지속적인 혁신 기술 개발과 사업부와의 협력을 통해 사용자들의 오디오 경험을 풍부하게 만드는 데 이바지하겠다”고 말했다.



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